1. J. Červenka, M. Ledinský, T. h. Stuchlíková, J. Stuchlík, Z. Výborný, J. Holovský, K. Hruška, A. Fejfar, J. Kočka
    Ultrasharp Si nanowires produced by plasma-enhanced chemical vapor deposition
    Physica Status Solidi-Rapid Research Letters 4 (2010) 37-39.
  2. A. Fejfar, A. Vetuško, V. Kalusová, O. Čertík, M. Ledinský, B. Rezek, J. Stuchlík, J. Kočka
    Relation of nanoscale and macroscopic properties of mixed-phase silicon thin films
    physica status solidi (a) 207 (2010) 582-586.
  3. A. Vetuško, A. Fejfar, M. Ledinský, B. Rezek, J. Stuchlík, J. Kočka
    Comment on "Current routes in hydrogenated microcrystalline silicon"
    Physical Review B 81 (2010) 237301(1)-237301(4).
  4. A. Vetuško, A. Fejfar, M. Ledinský, B. Rezek, J. Stuchlík, J. Kočka
    Role of the tip induced local anodic oxidation in the conductive atomic force microscopy of mixed phase silicon thin films
    physica status solidi (c) 7 (2010) 728-731.
  5. M. Ledinský, A. Vetuško, J. Stuchlík, A. Fejfar, J. Kočka
    Raman mapping of microcrystalline silicon thin films with high spatial resolution
    physica status solidi (c) 7 (2010) 704-707.
  6. E. Verveniotis, B. Rezek, E. Šípek, J. Stuchlík, J. Kočka
    Role of current profiles and atomic force microscope tips on local lectric crystallization of amorphous silicon
    Thin Solid Films 518 (2010) 5965-5970.
  7. J. Červenka, M. Ledinský, J. Stuchlík, T. h. Stuchlíková, S. Bakardjieva, K. Hruška, A. Fejfar, J. Kočka
    The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
    Nanotechnology 21 (2010) 415604(1)-415604(7).
  8. P. Vašek, P. Svoboda, V. Novák, M. Cukr, Z. Výborný, V. Jurka, J. Stuchlík, M. Orlita, D.K. Maude
    Anisotropic Magnetoresistance of GaMnAs Ferromagnetic Semiconductors
    Journal of Superconductivity and Novel Magnetism 23 (2010) 1161-1163.