RNDr. Jiří Olejníček, Ph.D.
Naše skupina se zaměřuje na základní i aplikovaný výzkum přípravy tenkých vrstev a vícevrstvých struktur pomocí pokročilých technologií na bázi plazmatu, zejména fyzikální depozice z plynné fáze (PVD) a chemické depozice z plynné fáze za pomoci plazmatu (PECVD). Mezi naše hlavní technologie patří reaktivní magnetronové naprašování, výboj v duté katodě (HCD) a vysokovýkonné pulzní magnetronové naprašování (HiPIMS). Tyto metody nám umožňují dosáhnout precizní kontroly nad vlastnostmi nanášených vrstev.
Specializujeme se na vývoj polovodivých oxidů, jako jsou TiO₂, ZnO a WO₃, které nacházejí uplatnění v oblastech fotokatalýzy, optických povlaků a detekce záření. Dále se věnujeme přípravě nitridů, sulfidů a kovových vrstev s potenciálem využití v optoelektronice a ekologických aplikacích. Naše výzkumy zahrnují také hierarchické a nanostrukturované tenké vrstvy, kde se nám díky vysokým depozičním rychlostem a zlepšené krystalinitě daří optimalizovat jejich optické a elektronické vlastnosti.