Plazmatické depoziční technologie

Skupina se zabývá výzkumem plazmatických depozičních metod určených pro přípravu různých typů tenkých vrstev, vícevrstvých struktur a nanostruktur. Jedná se o nové PVD a PECVD plazmatické metody jako je vícetryskový systém pulzních dutých katod pro rychlé reaktivní naprašování, pulzní reaktivní HiPIMS magnetronové systémy a MW vícetryskový PECVD plazmový systém s povrchovou vlnou. Zkoumány jsou tenké vrstvy na bázi polovodivých oxidů (Fe₂O₃, TiO₂, WO₃) a polovodivých sulfidů (FeS₂, MoS₂, atd.) určených pro fotokatalytické aplikace (solární rozklad vody atd.).

Vedoucím skupiny plazmatické depozice tenkých vrstev je RNDr. Jiří Olejníček, Ph.D.