Image
Text
ALD depoziční systém s mikrovlnným surfatronovým plazmatem a ECWR vysokofrekvenčním induktivně vázaným výbojem umožňuje ALD depozici ultratenkých vrstev v cyklech po atomových monovrstvách. Je možné deponovat tenké vrstvy díky přítomnosti plazmatu při nižších teplotách substrátu.