Lineární plazmatický systém s řadou dutých katod pro rychlou reaktivní depozici tenkých vrstev

Plazmatické zařízení umožňuje depozici tenkých vrstev na velké plochy s vysokou depoziční rychlostí.  K procesu je využito reaktivní odprašování a odpařování řady dutých katod pracující s reaktivními plazmatickými kanály. Zařízení je vhodné k depozici tlustých polovodivých tenkých vrstev na rovné nebo porézní substráty.