Boranové klastry pro nanostrukturovaná rozhraní materiálů v elektronických aplikací

Anotace

Předmětem řešení projektu bude vývoj nové technologie výroby funkčních derivátů boránových a karboránových sloučenin pro přípravu nanovrstev jak na polovodivém, tak i kovovém substrátu a jejich využití pro mělkou dopaci Si substrátů za použití laseru. Připravené materiály využívající monomolekulární vrstvy povedou k nové technologii mělké dopace a vyznačují se výraznou úsporou ve spotřebě výchozích boránových materiálů. Výsledek projektu bude poloprovozní technologie zcela nového procesu výroby polovodivých substrátů založených na implantaci bóru laserem. Tyto materiály budou následně využity ve fotovoltaice.