Univerzální mikrovlnný plazmatický systém pro růst tenkých diamantových vrstev, uhlíkových nanotrubic a nano-listů na velkých plochách za nízkých tlaků a nízkých teplot.

Růst intrinzických a cíleně dopovaných nanokrystalických, mikrokrystalických a porézních diamantových vrstev, nebo uhlíkových nanotrubic a nano-listů na velkých plochách za nízkých tlaků a nízkých teplot (> 250 °C) s nezávislou kontrolou ohřevu podložky do 750°C a s duální plazmou rozprostřenou v plně automatizovaném komerčně kompatibilním systému určeným pro multidisciplinární účely v tribologii, mikroelektronice, senzorice, fotonice a optice, a v biotechnologiích (tj. plynové senzory, biosenzory, FET tranzistory, MEMS a mikrofluidní prvky, fotonické krystaly, elektrody pro elektrochemické procesy, podložky pro regenerativní medicínu, a jiné).