Ovládaní přes počítač v automatickém, poloautomatickém nebo manuálně řízeném režimu zajišťuje stabilní plazmový výboj s nízkou až vysokou výkonovou hustotou (tlakový rozsah 10-200 Torr) a dlouhodobé deposiční procesy pro růst tlustých vrstev diamantů s možností vzdáleného monitorování. Přiložený infračervený pyrometr umožňuje in-situ monitorování procesní teploty v rozsahu 475-1475 °C, zatímco další sloty umožňují připojení dodatečných metrologických nástrojů. Systém je určen pro depozici intrinzických a dopovaných diamantových vrstev pro multidisciplinární účely v tribologii, mikroelektronice, senzorice, fotonice a optice, a v biotechnologiích (tj. plynové senzory, biosenzory, FET tranzistory, MEMS a mikrofluidní prvky, fotonické krystaly, elektrody pro elektrochemické procesy, podložky pro regenerativní medicínu, a jiné).