Zařízení pro růst krystalů visutou zonální tavbou s optickým ohřevem (FZ-T-12000-X-VP-CR, Crystal Systems, Ltd.)

Image
MCM_16.png
Text

Zařízení umožňuje přípravu monokrystalů i definovaných krystalových struktur (bikrystaly, trikrystaly…) visutou zonální tavbou. Optický ohřev je realizován 4 xenonovými výbojkami, každá o výkonu až 3 kW. Růst probíhá v prostoru uzavřeném křemennou trubkou a v inertní atmosféře či vakuu. Principiálně lze dosáhnout teplot až 2600°C. Zařízení je využíváno pro růst monokrystalů a bikrystalů niklu a slitin na bázi železa a jiných komplexních materiálů.