| Název | Režim přístupu | Kategorie | Kontaktní osoba |
|---|---|---|---|
| In-liquid plazmochemický depoziční PECVD system | uživatelský přístup | Příprava materiálů | |
| Mikrovlnný PECVD reaktor AX5010 | uživatelský přístup | Příprava materiálů | |
| NIRIM – Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition system | uživatelský přístup | Příprava materiálů | |
| Potenciostat Reference 600+ | uživatelský přístup | Charakterizace a testování | |
| W&L Nízkoteplotní CVD Systém | uživatelský přístup | Příprava materiálů |
© 1998 – 2025 Copyright © Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.