Cílem projektu je návrh, vývoj a realizace modulárního hybridního PVD-PECVD systému pro nízkoteplotní depozice funkčních tenkých a tlustých vrstev oxidů. Systém bude založen na vícetryskové technologii pulzních dutých katod a umožní rychlé nanášení homogenních funkčních vrstev na teplotně citlivé substráty o velkých rozměrech vhodných pro průmyslové aplikace. Hlavní směr projektu bude soustředěn zejména na vrstvy TiO2 (s významným aplikačním potenciálem pro aplikovanou nanostrukturovanou optiku, difraktivní prvky pro ochranu proti padělání, fotoelektrochemický rozklad vody) a další aplikačně zajímavé oxidy. Oproti stávajícím dostupným technologiím bude dosaženo vysoké depoziční rychlosti, vysoké míry regulovatelnosti parametrů deponovaných vrstev s možností aplikace tlustých vrstev.
Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na TiO2 tenké vrstvy pro rozklad vody
Anotace