Hlavním cílem předkládaného projektu je návrh, vývoj a realizace hybridního a plně modulárního mikrovlnného systému chemické depozice z plynné fáze za asistence plazmatu založeného na nízkoteplotním zdroji plazmatu, surfatronu, s vysokým stupněm ionizace, který bude vhodný pro růst nových, moderních materiálů a jejich (nano) kompozitních forem, jako jsou například oxidy (TiO2, ZnO) nebo diamant. Hlavní výzvou projektu je zajištění několika různých průmyslových aspektů v jednom systému. Jedná se například o kombinace depozice na rozsáhlé plochy či 2D/3D objekty, nízké depoziční teploty, vysoké spolehlivosti a reprodukovatelnosti plazmové depozice při zachování dlouhodobé stability celého procesu. Zdroj plazmatu v radiálním či lineárním uspořádání bude systematicky studován množstvím analytických metod v závislosti na procesních parametrech (celkový tlak, složení plynné směsi, geometrie systému zdroje plazmatu a podobně). Výsledný depoziční systém bude vhodný pro široké spektrum průmyslových aplikací.
Nízkoteplotní hybridní mikrovlnné plazmové zdroje s vysokým stupněm ionizace uspořádaných v matricové konfiguraci umožňujících depozice perspektivných materiálů a jejich (nano) kompozitů na 2D a 3D objekty
Anotace