Text
Tento článek se zabývá metodami zlepšování elektrických vlastností nanokrystalických BDD filmů vytvořených při nízkých teplotách pomocí chemické depozice z plynné fáze. Novinka spočívá v prokázání, že úprava po růstu zvyšuje elektrické vlastnosti těchto filmů a překonává omezení daná nízkými teplotami depozice. Integrace vodivé titanové (Ti) mřížky navíc umožňuje výrobu vysoce transparentních a vodivých velkoplošných nanokrystalických BDD elektrod při 250 °C.
Popis
(a) Rezistivita borem dopovaného nanokrystalického diamantu vypěstovaného při různých teplotách a (b) fotografie transparentní vodivé elektrody na bázi BDD a Ti-grid.