Přeskočit do hlavního obsahu
Home Home
FZU
Kontakty
  • Facebook
  • Twitter
  • Instagram
  • Youtube

Menu uživatelského účtu

  • Přihlásit se
  • English

Hlavní navigace

  • Výzkum
    • Výzkumné sekce a oddělení
    • Organizační schéma
    • Výzkumná témata
    • Významné výsledky
    • Publikace
    • Projekty
    • Společná pracoviště
    • Partnerské instituce
    • Aktuality z výzkumu
  • Lidé
  • Služby
    • Podpora vědců
    • Pro firmy
    • Oblasti expertízy
    • Patenty a licence
    • Vybavení a technologie
    • Možnosti spolupráce
    • Reference
  • Novinky
  • Akce
  • Veřejnost
    • Akce pro veřejnost
    • Akce pro školy
    • Akce pro studenty
    • Novinky z popularizace
    • Výukové materiály
    • Online přednášky
    • Časopisy a weby
    • Virtuální prohlídky
  • Kariéra
    • Volná místa
    • Pro studující
    • Proč FZU?
    • Rozvoj kariéry
    • Welcome Office
    • Kontaktujte nás
    • HR Award
    • Alumni klub FZU
    • FAQ - Často kladené dotazy
  • O FZU
    • Kontakt
    • Organizační struktura
    • Vedení FZU
    • Rada FZU
    • Dozorčí rada FZU
    • Mezinárodní poradní sbor
    • Činnost FZU
    • Historie FZU
    • Úřední deska
    • Pro média
  • English

Menu uživatelského účtu

  • Přihlásit se

Drobečková navigace

  1. Home
  2. Lidé
  3. Mgr. Oleksandr Romanyuk, Ph.D.
  4. Výsledky

Mgr. Oleksandr Romanyuk, Ph.D.

Pracovní pozice
Vedoucí pracovní skupiny
Kategorie
Věd. pracovník
Sekce (číslo)
Sekce fyziky pevných látek (3)
Oddělení (číslo)
Oddělení optických materiálů (27)
Laboratoř / vědecká skupina
Skupina fotoelektronové spektroskopie (2711)
Telefon
220 318 526, 220 318 522
E-mail
romanyuk [at] fzu.cz
Lokalita
Cukrovarnická
Místnost
F 114
F 93
  • Činnost
  • Výsledky (vaše aktuální poloha)
  • Publikace
  • Granty
  • Expertíza

Fotoemisní studie pasivačních vrstev GaN a uspořádání pásů na heterointerfaces GaInP(100)

Image
Fig1.jpg

Long-term stability of antifouling poly(carboxybetaine acrylamide) brush coatings

Image
4-6_Long-term stability of antifouling poly_Graphical abstract_UPRAVENO.png

Hloubkové profilování krystalů AlN a AlxGa1-xN metodou XPS s využitím excitace čar Al Kα a Ag Lα a Ar iontového zdroje

Image
Fig3.png

Kombinace pokročilých přístupů fotoelektronové spektroskopie k analýze hluboko uložených rozhraní GaP(As)/Si(1 0 0): Mezifázové chemické stavy a úplné pásové energetické diagramy

Image
Valence band

Aby vám nic neuteklo

Přihlaste se k odběru nejzajímavějších novinek z fyzikálního světa.

Informace o zpracování osobních údajů

Patička - Typ uživatele

  • Pro studenty
  • Pro firmy
  • FZU Alumni
  • Akce pro veřejnost

Patička

  • Ochrana osobních údajů
  • Zásady používání cookies

Externí odkazy patička

  • Akademie věd České republiky
  • Facebook
  • Twitter
  • Instagram
  • Youtube

Fyzikální ústav AV ČR
Na Slovance 1999/2, 182 00 Praha 8 více >

© 1998 – 2025 Copyright © Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.