Text
Nový technologický postup umožňující vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev např. TiO2 na průmyslové substráty jako jsou navíjené plastové fólie a podobně. Samotná technologie je založena na výboji v nechlazené duté katodě hořícím dlouhodobě v režimu „hollow cathode arc“ (HCA), čímž dochází současně k rozprašování i evaporaci materiálu, ze kterého je dutá katoda vyrobena. Oproti klasickým metodám magnetronového naprašování dosahuje tento způsob nanášení tenkých vrstev až o řád vyšší depoziční rychlost a to jednak z důvodu absence oxidace rozprašovaného terče, jednak díky významnému pozitivnímu vlivu tepelné evaporace.
Popis
Obrázek: Lineární vícetryskový plazmatický systém pro rychlou depozici tenkých vrstev na velké plochy.