Nemáte povoleny cookies, které jsou nutné pro přehrání tohoto obsahu, který je hostován třetí stranou. Zobrazením externího obsahu přijímáte smluvní podmínky provozovatele služby YouTube.

Youtube_icon
Upravit nastavení cookies
Video si můžete přehrát na youtube.com
Přeskočit do hlavního obsahu
Home Home
FZU
Kontakty
  • Facebook
  • LinkedIn
  • Bluesky
  • Instagram
  • Youtube

Menu uživatelského účtu

  • Přihlásit se
  • English

Hlavní navigace

  • Výzkum
    • Výzkumné sekce a oddělení
    • Organizační schéma
    • Výzkumná témata
    • Významné výsledky
    • Publikace
    • Projekty
    • Společná pracoviště
    • Partnerské instituce
    • Aktuality z výzkumu
  • Lidé
  • Služby
    • Podpora vědců
    • Pro firmy
    • Oblasti expertízy
    • Patenty a licence
    • Open Science
    • Vybavení a technologie
    • Možnosti spolupráce
    • Reference
  • Novinky
  • Akce
  • Veřejnost
    • Akce pro veřejnost
    • Akce pro školy
    • Akce pro studenty
    • Novinky z popularizace
    • Výukové materiály
    • Online přednášky
    • Časopisy a weby
    • Virtuální prohlídky
  • Kariéra
    • Volná místa
    • Pro studující
    • Proč FZU?
    • Rozvoj kariéry
    • Welcome Office
    • Kontaktujte nás
    • HR Award
    • Projekt Návraty
    • Alumni klub FZU
  • O FZU
    • Kontakt
    • Organizační struktura
    • Vedení FZU
    • Rada FZU
    • Dozorčí rada FZU
    • Mezinárodní poradní sbor
    • Činnost FZU
    • Historie FZU
    • Úřední deska
    • Pro média
  • English

Menu uživatelského účtu

  • Přihlásit se

Drobečková navigace

  1. Home
  2. Lidé
  3. Mgr. Ivan Gordeev, Ph.D.
  4. Výsledky

Mgr. Ivan Gordeev, Ph.D.

Kategorie
Věd. asistent
Sekce (číslo)
Sekce fyziky pevných látek (3)
Oddělení (číslo)
Oddělení polovodičů (14)
Laboratoř / vědecká skupina
Laboratoř plazmatických procesů (3602)
Mikrosystémy a Senzory (1407)
Skupina fotoelektronové spektroskopie (2711)
Telefon
220 318 511
E-mail
gordeev [at] fzu.cz
Lokalita
Cukrovarnická
Místnost
A 35/1
  • Činnost
  • Výsledky (vaše aktuální poloha)
  • Publikace

Hloubkové profilování krystalů AlN a AlxGa1-xN metodou XPS s využitím excitace čar Al Kα a Ag Lα a Ar iontového zdroje

Image
Fig3.png

Kombinace pokročilých přístupů fotoelektronové spektroskopie k analýze hluboko uložených rozhraní GaP(As)/Si(1 0 0): Mezifázové chemické stavy a úplné pásové energetické diagramy

Image
Valence band

Aby vám nic neuteklo

Přihlaste se k odběru nejzajímavějších novinek z fyzikálního světa.

Informace o zpracování osobních údajů

Patička - Typ uživatele

  • Pro studenty
  • Pro firmy
  • FZU Alumni
  • Akce pro veřejnost

Patička

  • Ochrana osobních údajů
  • Zásady používání cookies

Externí odkazy patička

  • Akademie věd České republiky
  • Facebook
  • LinkedIn
  • Bluesky
  • Instagram
  • Youtube

Fyzikální ústav AV ČR
Na Slovance 1999/2, 182 00 Praha 8 více >

© 1998 – 2026 Copyright © Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.