Nemáte povoleny cookies, které jsou nutné pro přehrání tohoto obsahu, který je hostován třetí stranou. Zobrazením externího obsahu přijímáte smluvní podmínky provozovatele služby YouTube.

Youtube_icon
Upravit nastavení cookies
Video si můžete přehrát na youtube.com
Přeskočit do hlavního obsahu
Home Home
FZU
Kontakty
  • Facebook
  • LinkedIn
  • Bluesky
  • Instagram
  • Youtube

Menu uživatelského účtu

  • Přihlásit se
  • English

Hlavní navigace

  • Výzkum
    • Výzkumné sekce a oddělení
    • Organizační schéma
    • Výzkumná témata
    • Významné výsledky
    • Publikace
    • Projekty
    • Společná pracoviště
    • Partnerské instituce
    • Aktuality z výzkumu
  • Lidé
  • Služby
    • Podpora vědců
    • Pro firmy
    • Oblasti expertízy
    • Patenty a licence
    • Open Science
    • Vybavení a technologie
    • Možnosti spolupráce
    • Reference
  • Novinky
  • Akce
  • Veřejnost
    • Akce pro veřejnost
    • Akce pro školy
    • Akce pro studenty
    • Novinky z popularizace
    • Výukové materiály
    • Online přednášky
    • Časopisy a weby
    • Virtuální prohlídky
  • Kariéra
    • Volná místa
    • Pro studující
    • Proč FZU?
    • Rozvoj kariéry
    • Welcome Office
    • Kontaktujte nás
    • HR Award
    • Projekt Návraty
    • Alumni klub FZU
  • O FZU
    • Kontakt
    • Organizační struktura
    • Vedení FZU
    • Rada FZU
    • Dozorčí rada FZU
    • Mezinárodní poradní sbor
    • Činnost FZU
    • Historie FZU
    • Úřední deska
    • Pro média
  • English

Menu uživatelského účtu

  • Přihlásit se

Drobečková navigace

  1. Home
  2. Lidé
  3. Iryna Naiko, MSc.
  4. Publikace

Iryna Naiko, MSc.

Souhrn

Depozice tenkých vrstev a charakterizace nízkoteplotního plazmatu

Foto
Image
Iryna Naiko
Pracovní pozice
Doktorand
Kategorie
Doktorand
Sekce (číslo)
Sekce optiky (4)
Oddělení (číslo)
Oddělení nízkoteplotního plazmatu (25)
Laboratoř / vědecká skupina
Skupina diagnostiky plazmatu a analýzy tenkých vrstev (2505)
Telefon
266 05 2959
E-mail
naiko [at] fzu.cz
Lokalita
Slovanka
Místnost
O 216
  • Činnost
  • Publikace (vaše aktuální poloha)
  • Patenty
  • (-) Vše
  • Časopisy
  1. K. Jirátová, I. Naiko, A. Ostapenko, J. Olejníček, M. Čada, J. Balabánová, M. Koštejn, J. Maixner, P. Topka, F. Kovanda
    Electrochemical deposition of Ni-Co oxides vs. low-temperature hollow cathode plasma jet sputtering on stainless steel meshes: Physicochemical properties and activity in volatile organic compounds oxidation
    Surface & Coatings Technology 520 (2026) 133068(1)-133068(14).
  2. I. Naiko, R. Hippler, A. Kruth, H. Wulff, D. Chvostová, Ch. A. Helm, J. Wallis, N. Nepomniashchaia, Z. Remeš, J. Olejníček, M. Čada, Z. Hubička
    Plasma diagnostics and deposition of functional zirconia thin films by reactive magnetron sputtering
    Vacuum 254 (2026) 115645(1)-115645(16).
  3. K. Jirátová, M. Čada, I. Naiko, A. Ostapenko, J. Balabánová, M. Koštejn, J. Maixner, T. Babii, P. Topka, Z. Hubička, F. Kovanda
    Combination of Plasma Jet and Magnetron Sputtering - A New Method for Preparing Thin Ni−Co−Mn Oxide Coatings on Stainless Steel Meshes and Their Efficiency in the Total Oxidation of Volatile Organic Compounds
    Industrial & Engineering Chemistry Research 63 (2024) 18759-18772.
  4. K. Jirátová, M. Čada, I. Naiko, A. Ostapenko, J. Balabánová, M. Koštejn, J. Maixner, T. Babii, P. Topka, K. Soukup, Z. Hubička, F. Kovanda
    Plasma Jet Sputtering as an Efficient Method for the Deposition of Nickel and Cobalt Mixed Oxides on Stainless-Steel Meshes: Application to VOC Oxidation
    Catalysts 13 (2023) 79(1)-79(21).

Aby vám nic neuteklo

Přihlaste se k odběru nejzajímavějších novinek z fyzikálního světa.

Informace o zpracování osobních údajů

Patička - Typ uživatele

  • Pro studenty
  • Pro firmy
  • FZU Alumni
  • Akce pro veřejnost

Patička

  • Ochrana osobních údajů
  • Zásady používání cookies

Externí odkazy patička

  • Akademie věd České republiky
  • Facebook
  • LinkedIn
  • Bluesky
  • Instagram
  • Youtube

Fyzikální ústav AV ČR
Na Slovance 1999/2, 182 00 Praha 8 více >

© 1998 – 2026 Copyright © Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.