Činnost

V rámci svého doktorského studia se věnuji výzkumu depozice tenkých vrstev pomocí metody ALD a magnetronového naprašování. Cílem je optimalizovat a pochopit reaktivní depoziční proces a vliv plazmatu na formování jedno-atomových tenkých vrstev. Vedle toho se také věnuji programování řízení měřících přístrojů.

ORCID: 0000-0002-6941-0492