Ing. Mgr. Neda Neykova, Ph.D.

Foto
Image
Neda Neykova
Pracovní pozice
Vedoucí laboratoře
Telefon
220 318 474, 220 318 516
E-mail
neykova [at] fzu.cz
Lokalita
Cukrovarnická
Místnost
A 136
D 19
  1. Abhinav Deep Pakki, Rupendra Kumar Sharma, N. Neykova, Petko Mandjukov, J. Holovský
    Journal of Chemical Technology and Metallurgy 59 (2024) 361-366.
  2. M. Buryj, N. Neykova, M. G. Brik, Yu-Min Wang, Z. Remeš, K. Pekárková, V. Babin, M. Davydova, J. Drahokoupil, S. Chertopalov, L. Landová, O. Pop-Georgievski
    Optical Materials 145 (2023) 114445(1)-114445(11).
  3. Journal of Physical Chemistry C 127 (2023) 22177-22189.
  4. Chemosensors 11 (2023) 156(1)-156(16).
  5. M. Buryj, V. Babin, N. Neykova, Yu-Min Wang, Z. Remeš, K. Pekárková, F. Dominec, M. Davydova, J. Drahokoupil, S. Chertopalov, L. Landová, Ognen Pop-Georgievski
    Materials 16 (9) (2023) 3294(1)-3294(20).
  6. K. Pekárková, M. Buryj, V. Babin, David John, Jan Drahokoupil, N. Neykova, Tatsiana Salamakha, Yauhen Tratsiak
    Crystals 13 (2023) 902(1)-902(10).
  7. Applied Surface Science 611 (2023) 155651(1)-155651(14).
  8. Materials 15 (2022) 2261(1)-2261(18).
  9. K. Pekárková, Roman Grill, Amalraj Peter Amalathas, Branislav Dzurňák, N. Neykova, Lukáš Horák, Peter Fiala, Xin Yu Chin, Christian M. Wolff, Quentin Jeangros, J. Holovský
    Journal of Materials Chemistry A 10 (2022) 18928-18938.
  10. J. Cajzl, P. Nekvindová, K. Jeníčková, A. Jagerová, P. Malinský, Z. Remeš, N. Neykova, Y.Y. Chang, J. Oswald, U. Kentsch, A. Macková
    Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B 464 (2020) 65-73.
  11. Z. Remeš, M. Buryj, N. Neykova, J. Stuchlík, J. Mičová, Hua Shu Hsu
    Materials Today: Proceedings 33 (2020) 2481-2483.
  12. N. Neykova, Y. Y. Chang, M. Buryj, M. Davydova, R. Kučerková, D. Šimek, Z. Remeš, O. Pop-Georgievski
    Applied Surface Science 472 (2019) 105-111.
  13. Z. Remeš, Y. Y. Chang, J. Stuchlík, N. Neykova, J. Souček, Hua Shu Hsu
    IOP Conference Series: Materials Science and Engineering 465 (2019) 012008(1)- 012008(7).
  14. Journal of Physical Chemistry Letters 10 (2019) 1368-1373.
  15. M. Davydova, A. Laposa, J. Smarhak, A. Kromka, N. Neykova, J. Nahlik, J. Kroutil, J. Drahokoupil, J. Voves
    Beilstein Journal of Nanotechnology 9 (2018) 22-29.
  16. J. Mičová, M. Buryj, D. Šimek, J. Drahokoupil, N. Neykova, Y.-Y. Chang, Z. Remeš, O. Pop-Georgievski, J. Svoboda, Ch. Im
    Applied Surface Science 461 (2018) 190-195.
  17. Perovskites – new prodigy in photovoltaics
    Československý časopis pro fyziku 68 (2018) 149-151.
  18. N. Neykova, J. Stuchlík, K. Hruska, A. Poruba, Z. Remeš, O. Pop-Georgievski
    Beilstein Journal of Nanotechnology 8 (2017) 446-451.
  19. J. Holovský, S. De Wolf, J. Werner, Z. Remeš, M. Müller, N. Neykova, M. Ledinský, L. Černá, P. Hrzina, P. Löper, B. Niesen, Ch. Ballif
    Journal of Physical Chemistry Letters 8 (2017) 838-843.
  20. Y.-Y. Chang, J. Stuchlík, N. Neykova, J. Souček, Z. Remeš
    Journal of Electrical Engineering 68 (2017) 70-73.
  21. Nina Yu Kostina, Ognen Pop-Georgievski, Michael Bachmann, N. Neykova, Michael Bruns, Jiří Michálek, Martin Bastmeyer, Cesar Rodriguez-Emmenegger
    Macromolecular Chemistry and Physics 16 (2016) 83-94.
  22. O. Pop-Georgievski, D. Kubies, J. Zemek, N. Neykova, R. Demianchuk, E.Mázl Chánová, M. Šlouf, M. Houska, F. Rypáček
    Beilstein Journal of Nanotechnology 6 (2015) 617-631.
  23. N. Neykova, E. Moulin, A. Campa, K. Hruška, A. Poruba, M. Stuckelberger, F.-J. Haug, M. Topic, C. Ballif, M. Vaněček
    physica status solidi (a) 212 (2015) 1823-1829.
  24. Sensitivity of encapsulated diamond-protein transistor renewed by low temperature hydrogen plasma
    International Journal of Electrochemical Science 8 (2013) 1598-1608.
  25. Ognen Pop-Georgievski, N. Neykova, Vladimir Proks, J. Houdková, E. Ukraintsev, J. Zemek, A. Kromka, František Rypaček
    Thin Solid Films 543 (2013) 180-186.
  26. Thin Solid Films 543 (2013) 110-113.
  27. Vacuum 86 (2012) 603-607.
  28. N. Neykova, A. Brož, Z. Remeš, K. Hruška, M. Kalbáčová, A. Kromka, M. Vaněček
    Applied Surface Science 258 (2012) 3485-3489.
  29. Etching effects of low temperature hydrogen plasma on encapsulated diamond transistors
    Acta Universitatis Carolinae, Mathematica et Physica 53 (2012) 97-103.
  30. M. Vaněček, O. Babčenko, A. Purkrt, J. Holovský, N. Neykova, A. Poruba, Z. Remeš, J. Meier, U. Kroll
    Applied Physics Letters 98 (2011) 163503-1-163503-3.