Pomocí tradičních elektrických diagnostických nástrojů, konkrétně jednoduchých a dvojitých Langmuirových sond, byly určeny parametry plazmatu generovaného na povrchu kovového (Bi) terče fokusovaným svazkem repetičního XUV kapilárního laseru stolních rozměrů. Přestože elektronová teplota XUV laserem generovaného plazmatu (1-3 eV) byla srovnatelná s ablačním plazmatem vytvořeným konvenčním laserem, elektronová hustota byla proti ablačnímu plazmatu o několik řádů nižší (~1013–1014 m−3). Šlo tedy o desorpční plazma s unikátními vlastnostmi. Běžné desorpční plazma vytvořené konvenčním dlouhovlnným laserem se studuje téměř výhradně hmotovou spektrometrií s měřením doby průletu (TOF MS – time-of-flight mass spectroscopy). Langmuirovými sondami by jej nebylo možno sledovat. XUV laser ovšem zajistí vyšší tok částic a stupeň ionizace. Jde konec konců o velmi intenzivní zdroj ionizujícího záření. Experiment představuje podstatný krok ve směru přenosu XUV laserových znalostí, zkušeností a technologií z velkých zařízení do laboratorního aplikačního měřítka. Repetiční krátkovlnné lasery by v laboratořích, v budoucnu i průmyslových, mohly vytvářet nanostruktury, modifikovat optické, chemické a mechanické vlastnosti povrchů, a metodou PLD (pulsed laser deposition) produkovat tenké vrstvy požadovaných vlastností. Výsledky byly získány ve spolupráci s KFPP MFF UK a ÚFCH J. Heyrovského AV ČR, v. v. i., jako součást prací na PhD dizertaci P. Piry.
