Přeskočit do hlavního obsahu
Home Home Slavíme 70. výročí založení
FZU
Kontakty
  • Facebook
  • Twitter
  • Instagram
  • Youtube

Menu uživatelského účtu

  • Přihlásit se
  • English

Hlavní navigace

  • Výzkum
    • Výzkumné sekce a oddělení
    • Organizační schéma
    • Výzkumná témata
    • Významné výsledky
    • Publikace
    • Projekty
    • Společná pracoviště
    • Partnerské instituce
    • Aktuality z výzkumu
  • Lidé
  • Služby
    • Podpora vědců
    • Pro firmy
    • Oblasti expertízy
    • Patenty a licence
    • Vybavení a technologie
    • Možnosti spolupráce
    • Reference
  • Novinky
  • Akce
  • Veřejnost
    • Akce pro veřejnost
    • Akce pro školy
    • Akce pro studenty
    • Výukové materiály
    • Online přednášky
    • Časopisy a weby
    • Virtuální prohlídky
  • Kariéra
    • Volná místa
    • Pro studující
    • Proč FZU?
    • Rozvoj kariéry
    • Welcome Office
    • Kontaktujte nás
    • HR Award
    • Alumni klub FZU
  • O FZU
    • Kontakt
    • Organizační struktura
    • Vedení FZU
    • Rada FZU
    • Dozorčí rada FZU
    • Mezinárodní poradní sbor
    • Činnost FZU
    • Historie FZU
    • Úřední deska
    • Pro média
  • English

Menu uživatelského účtu

  • Přihlásit se

Drobečková navigace

  1. Home
  2. Lidé
  3. doc. Mgr. Jakub Holovský, Ph.D.
  4. Patenty

doc. Mgr. Jakub Holovský, Ph.D.

Foto
Image
Jakub Holovský
Kategorie
Věd. pracovník
Sekce (číslo)
Sekce fyziky pevných látek (3)
Oddělení (číslo)
Oddělení optických materiálů (27)
Laboratoř / vědecká skupina
Laboratoř syntézy a měření fotovoltaických nanomateriálů (2713)
Skupina pokročilých optických nanomateriálů a kompozitů (2712)
Telefon
220 318 516, 220 318 444
E-mail
holovsky [at] fzu.cz
Lokalita
Cukrovarnická
Místnost
D 19
A 16
  • Činnost
  • Výsledky
  • Publikace
  • Granty
  • Expertíza
  • Patenty (vaše aktuální poloha)
  • (-) Vše
  • 2012
  • (-) Vše
  • Certifikovaná metodika
  1. J. Holovský, Z. Remeš, A. Piják
    METHODOLOGY OF NOT DESTRUCTIVE DETERMINATION OF PHOSPHORUS CONCENTRATION PROFILE IN SI WAFERS
  2. J. Holovský, Z. Remeš, A. Piják
    METHODOLOGY OF NOT DESTRUCTIVE DETERMINATION OF BORON CONCENTRATION PROFILE IN SI WAFERS

Aby vám nic neuteklo

Přihlaste se k odběru nejzajímavějších novinek z fyzikálního světa.

Informace o zpracování osobních údajů

Patička - Typ uživatele

  • Pro studenty
  • Pro firmy
  • FZU Alumni
  • Akce pro veřejnost

Patička

  • Ochrana osobních údajů
  • Zásady používání cookies

Externí odkazy patička

  • Akademie věd České republiky
  • Facebook
  • Twitter
  • Instagram
  • Youtube

Fyzikální ústav AV ČR
Na Slovance 1999/2, 182 00 Praha 8 více >

© 1998 – 2024 Copyright © Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.