High-frequency apparatus for measurement of plasma parameters with using of wave resonance of electron cyclotron wave
Investigator
- doc. PaedDr. Petr Adámek, Ph.D.
Patent number
Užitný a průmyslový vzor CZ 29519 U1
Postscript
Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím
vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny
