Výzkum parametrů nízkoteplotního plazmatu v systémech planárního magnetronu, systémů s dutými katodami a mikrovlnného surfatronu.

Abstract

Podstatou předkládaného projektu je cíleně studovat parametry plazmatu v plazmatických technologických reaktorech pracujících za sníženého tlaku určených pro depozice tenkých vrstev. V dnešní době existuje několik zcela odlišných zdrojů plazmatu - planární magnetron, plazmová tryska s dutou katodou, mikrovlnný surfatron - určených pro vytváření specifických tenkých vrstev a povlaků, které se úspěšně používají v sekci Optika Fzú AV ČR pro nanášení tenkých vrstev perovskitových oxidů (STO, BTO, BSTO, PZT), TiOx, piezoelektrických ZnO a dalších na substráty z různých materiálů, například polymerů. Předchozí výzkumy ukazují, že vlastnosti tenkých vrstev připravených za pomocí výše zmíněných plazmových zdrojů se mohou zásadně lišit. Je proto žádoucí podrobně zkoumat vlastnosti těchto výbojů a provést základní srovnávací studii parametrů plazmatu, energetického toku na substrát a vlastností připravovaných vrstev mezi těmito plazmovými zdroji. Získané poznatky by nám pak měli umožnit jednak lépe pochopit vlastnosti plazmatu generovaného různými zdroji, ale také lépe optimalizovat depoziční proces pro konkrétní tenké vrstvy zvolením vhodného zdroje plazmatu, či jejich vzájemnou kombinací.