Radiačně chemické aplikace repetičního kapilárního XUV laseru: povrchy pevných látek (RAXL)

Abstract

Kompaktní repetiční (10 Hz) kapilární XUV laser (CDL) byl postaven členy XUV laserové skupiny na Colorado State University - CSU, Fort Collins, CO vedené Jorgem J. Roccou v roce 2007. Stalo se tak na základě bilaterální dohody CSU a FZÚ AV ČR o společném využívání tohoto unikátního zařízení v Praze. Zdroj poskytuje nanosekundové pulzy koherentního záření o vlnové délce 46,9 nm laserovou akcí Ne-podobných Ar iontů kolizně excitovaných v pinčujícím plazmatu kapilárního výboje. Laser je nyní připraven k využití v řadě aplikačních interakčních experimentů. V tomto návrhu je předloženo studium nevratných změn probíhajících na površích různých materiálů a ve vybraných nanostrukturách ozářených fokusovaným XUV laserovým svazkem.