1. L. Nožka, Z. Hubička, A. Písaříková, J. Krajczewski, P. Schovánek, J. Tomáštík, L. Václavek
    Plasmonic Characteristics of TiN Layers Deposited by ECWR Assisted MF Magnetron Sputtering
    Advanced Physics Research 5 (2026) 00166(1)-00166(10).
  2. P. Sezemský, R. Šimerová, P. Čurda, L. Gonzales-Salgueero, J. Toušek, A. Písaříková, P. Písařík, O. Kylián, I. Del Villar, M. Smietana, V. Straňák
    Beyond single domain sensing: Adapting indium tin oxide thin film crystallinity for enhanced optical and electrochemical performance
    Surfaces and Interfaces 86 (2026) 108724(1)-108724(10).
  3. K. Hibino, J. Olejníček, K. Yamanoi, C.S. Ponseca Jr., A. Shuaib, Y. Maruyama, A. Písaříková, M. Kohout, M. Čada, A. Kapran, Y. Akabe, N. Sarukura, Z. Hubička, S. Ono, M. Cadatal-Raduban
    Impact of electron cyclotron wave resonance plasma on defect reduction in ZnO thin films
    Scientific Reports 15 (2025) 5555(1)-5555(14).
  4. A. Písaříková, H. Krýsová, A. Kapran, P. Písařík, M. Čada, J. Olejníček, R. Hippler, Z. Hubička
    Semiconductor WO3 thin films deposited by pulsed reactive magnetron sputtering
    Materials Science in Semiconductor Processing 186 (2025) 109034(1)-109034(11).
  5. H. Krýsová, V. Mansfeldová, H. Tarábková, A. Písaříková, Z. Hubička, L. Kavan
    High‑quality dense ZnO thin films: work function and photo/electrochemical properties
    Journal of Solid State Electrochemistry 28 (2024) 2531-2546.
  6. A. Kapran, R. Hippler, H. Wulff, J. Olejníček, L. Volfová, A. Písaříková, N. Nepomniashchaia, M. Čada, Z. Hubička
    Crystalline Structure and Optical Properties of Cobalt Nickel Oxide Thin Films Deposited with a Pulsed Hollow-Cathode Discharge in an Ar+O2 Gas Mixture
    Coatings 14 (2024) 319(1)-319(10).
  7. M. Cadatal-Raduban, J. Olejníček, K. Hibino, Y. Maruyama, A. Písaříková, K. Shinohara, T. Asaka, L. Lebedová Volfová, M. Kohout, Z. Jiaqi, Y. Akabe, M. Nakajima, J.A. Harrison, R. Hippler, N. Sarukura, S. Ono, Z. Hubička, K. Yamanoi
    Ultrafast UV Luminescence of ZnO Films: Sub-30 ps Decay Time with Suppressed Visible Component
    Advanced Optical Materials 12 (2024) 2400377(1)-2400377(12).
  8. A. Kapran, R. Hippler, H. Wulff, J. Olejníček, A. Písaříková, M. Čada, Z. Hubička
    Characteristics of a pulsed hollow cathode discharge operated in an Ar+O2 gas mixture and deposition of copper nickel oxide thin films
    Vacuum 215 (2023) 112272(1)-112272(11).
  9. A. Písaříková, J. Olejníček, I. Venkrbcová, L. Nožka, S. Cichoň, A. Azinfar, R. Hippler, C. A. Helm, M. Mašláň, L. Machala, Z. Hubička
    CuFeO2 prepared by electron cyclotron wave resonance-assisted reactive HiPIMS with two magnetrons and radio frequency magnetron sputtering
    Journal of Vacuum Science & Technology A 41 (2023) 063005(1)-063005(13).
  10. A. Písaříková, R. Hippler, H. Wulff, M. Čada, O. Gedeon, P. Jiříček, J. Houdková, J. Olejníček, N. Nepomniashchaia, C. A. Helm, Z. Hubička
    Copper tungsten oxide (CuxWOy) thin films for optical and photoelectrochemical applications deposited by reactive high power impulse magnetron co-sputtering
    Journal of Applied Physics 132 (2022) 215301(1)-215301(13).
  11. A. Písaříková, R. Hippler, H. Wulff, M. Čada, J. Olejníček, N. Nepomniashchaia, C. A. Helm, Z. Hubička
    Deposition of tungsten oxide films by reactive magnetron sputtering on different substrates.
    Journal of Vacuum Science & Technology A 40 (2022) 063402(1)-063402(7).
  12. V. Jílek, L. Václavek, A. Písaříková, H. Chmelíčková
    Titanium laser welding
    Jemná mechanika a optika 67 (2022) 38-45.
  13. J. Olejníček, A. Písaříková, L. Lebedová Volfová, M. Dvořáková, M. Kohout, D. Tvarog, O. Gedeon, H. Wulff, R. Hippler, Z. Hubička
    WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge
    Vacuum 195 (2022) 110679(1)-110679(10).