A method for measuring low pressure deposition plasma using wave resonance of electrone-cyclotrone wave and device for realization of this method

Investigator
  • Ing. Štěpán Kment, Ph.D.
Laboratory / Department
Department of Low-Temperature Plasma
Patent number
Patent CZ 306799 B6
Date of award
Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu