Komerčně čistý titan byl implantovaný dusíkem, aby se vytvořil nitrid titanu TiN, který významně zlepšuje povrchové vlastnosti titanu (zejména tvrdost). Vzorky byly implantovány ionty dusíku urychlovacím napětím 90 kV a tokem ≈ 3·1017 cm-2. Úhel dopadu iontového svazku byl 90°. Implantovaný materiál byl charakterizovaný pomocí XRD, které identifikovalo hexagonální strukturu α-Ti matrice, mix Ti s N v intersticiálních pozicích a kubického δ-TiN nitridu na povrchu.
Pomocí TEM a techniky EELS byla změřena tloušťka vytvořené vrstvy TiN a navíc bylo zjištěno do jaké hloubky byly implantovány atomy dusíku intersticiálně do mřížky původně čistého Ti. EELS měření také odhalilo posun Ti-L23 hrany u vytvořeného TiN.
Spolupráce: Josef Vlček (ČVUT v Praze)